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题名/责任者:

计算光刻与版图优化/韦亚一 ... [等] 著

出版发行项:

北京:电子工业出版社,2021

ISBN及定价:

978-7-121-40226-5/CNY79.00

载体形态项:

x, 238页:图;26cm

并列正题名:

Computational lithography and layout optimization

丛编项:

中国科学院大学研究生教学辅导书系列

丛编项:

集成电路技术丛书

个人责任者:

韦亚一 著

个人责任者:

粟雅娟 著

个人责任者:

董立松 著

学科主题:

集成电路工艺-电子束光刻

中图法分类号:

TN405.98

题名责任附注:

题名页题: 韦亚一, 粟雅娟, 董立松, 张利斌, 陈睿等著

相关题名附注:

英文并列题名取自封面

书目附注:

有书目

使用对象附注:

本书不仅适合集成电路设计与制造领域的从业者阅读, 而且适合高等院校微电子相关专业的本科生、研究生阅读和参考

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