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MARC状态：已编 文献类型：电子图书 浏览次数：55

题名/责任者:
计算光刻与版图优化/韦亚一 ... [等] 著
出版发行项:
北京:电子工业出版社,2021
ISBN及定价:
978-7-121-40226-5/CNY79.00
载体形态项:
x, 238页:图;26cm
学科主题:
集成电路工艺
中图法分类号:
TN405.98
电子资源:
https://www.keledge.com/wrap/details/book?id=827425383753191424
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TN405.98/3-1 600001282   电子阅览室     可借 电子阅览室
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