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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:71

题名/责任者:
电沉积铜和铜合金过程中的电化学行为/丁莉峰, 牛宇岚著
出版发行项:
重庆:重庆大学出版社,2023
ISBN及定价:
978-7-5689-3393-3 精装/CNY88.00
载体形态项:
216页:图;25cm
并列正题名:
Electrochemical behaviour in the electrodeposition of copper and copper alloys
丛编项:
弘深·科学技术文库
个人责任者:
丁莉峰
个人责任者:
牛宇岚
学科主题:
铜合金-电沉积-电化学-研究
中图法分类号:
TG146.1
相关题名附注:
封面题英文并列题名:Electrochemical behaviour in the electrodeposition of copper and copper alloys
书目附注:
有书目 (第166-188页)
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TG146.1/13 010942409   文锦书苑     可借 文锦书苑
TG146.1/13 010942410   文锦书苑     可借 文锦书苑
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