检索到 7 条 分类号=TN305.7 的结果
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中文图书1.半导体湿法刻蚀加工技术
馆藏复本：0
可借复本：0 陈云, 陈新著
科学出版社 2023-09-01
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中文图书2.半导体干法刻蚀技术:原子层工艺
馆藏复本：0
可借复本：0 (美)索斯藤·莱尔(Thorsten Lill)著
机械工业出版社 2023.09.01
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中文图书3.半导体干法刻蚀技术
馆藏复本：0
可借复本：0 (日)野尻一男著
机械工业出版社 2024-01-01
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中文图书4.光学光刻和极紫外光刻:a modeling perspective
馆藏复本：0
可借复本：0 (德) 安迪·爱德曼著
上海科学技术出版社 2023.1
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中文图书5.等离子体刻蚀工艺及设备
馆藏复本：0
可借复本：0 主编赵晋荣
电子工业出版社 2023.2
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中文图书6.激光热敏光刻:原理与方法:principle and method TN305.7/2
馆藏复本：1
可借复本：1 魏劲松著
清华大学出版社 2022
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中文图书7.衍射极限附近的光刻工艺 TN305.7/1
馆藏复本：1
可借复本：1 伍强等编著
清华大学出版社 2020
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