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题名/责任者:

等离子体刻蚀工艺及设备/主编赵晋荣 参编蒋中伟 ... [等]

出版发行项:

北京:电子工业出版社,2023.2

ISBN及定价:

978-7-121-45018-1 精装/CNY98.00

载体形态项:

xiv, 164页:图;25cm

并列正题名:

Plasma etching process and apparatus

丛编项:

集成电路系列丛书/主编叶甜春.集成电路产业专用装备

个人责任者:

赵晋荣 主编

个人次要责任者:

蒋中伟 参编

个人次要责任者:

林源为 参编

学科主题:

等离子刻蚀-工艺学

学科主题:

等离子刻蚀-设备

中图法分类号:

TN305.7

题名责任附注:

题名页题: 参编蒋中伟, 林源为, 韦刚, 李兴存, 唐希文等

相关题名附注:

英文并列题名取自封面

书目附注:

有书目

使用对象附注:

本书对从事等离子体刻蚀基础研究和集成电路工厂产品刻蚀工艺调试的人员均有一定的参考价值

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